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亞氨基二琥珀酸四鈉在電鍍工業(yè)上的應用

電鍍銀層是航空發(fā)動機的常用鍍層之一,主要用于防止發(fā)動機零件在使用過程中發(fā)生高溫粘接。目前的電鍍銀工藝多數(shù)為氰化物體系。隨著國家對環(huán)保要求的提高,需要更加安全環(huán)保的無氰電鍍銀工藝。

無氰電鍍銀工藝主要有海因體系、丁二酰亞胺體系、硫代硫酸鹽體系、磺基水楊酸體系、亞氨基二磺酸銨(NS)體系等等。其中亞氨基二磺酸銨體系電鍍銀具有鍍層結晶細致、光亮、結合力良好等優(yōu)點,但是該體系并未在國內推廣,因為配位劑NS沒有穩(wěn)定的貨源。針對NS的供貨問題,科研人員致力于研究開發(fā)合適的替代物,亞氨基二琥珀酸及其金屬鹽是一種新型綠色環(huán)保的堿性配位劑,具有無磷、無毒、無公害和易生物降解的特性,可以應用于無氰鍍銀工藝。

亞氨基二琥珀酸四鈉

研究表明,以亞氨基二琥珀酸四鈉代替NS作為配位劑時,銀電沉積的陰極極化曲線整體負移,說明改用IDS作為配位劑時銀電沉積的陰極極化作用增強。理論上,IDS體系可制備出更光亮、結晶更細致的銀鍍層。使用IDS為配位劑時,制備的銀鍍層更均勻,顏色更白,并略帶金屬光澤。在相同電流密度下,IDS配位體系電鍍銀層的光澤高于NS配位體系的電鍍銀層。使用IDS或NS作為配位劑均可電鍍得到表面平整、缺陷較少的銀鍍層,但IDS配位體系電鍍銀層的晶粒更小,表面的胞狀結構圓潤,近似于橢球形,排列更致密,而NS配位體系電鍍銀層的晶粒較大,表面的胞狀結構粗糙,并且有明顯的棱角,不如IDS配位體系電鍍銀層致密。

IDS配位體系電鍍銀層具有更均勻的外觀、更高的光澤以及更好的微觀形貌,并且銀鍍層脆性未有增大。IDS來源廣泛、成本適中,是替代NS配位劑的良好選擇,適合進行工業(yè)化生產(chǎn)。

IDS還可以用于在碳鋼表面鍍鎳鋅合金的鍍液,鍍液以苯甲酸鈉、煙酸作為光亮劑,亞氨基二琥珀酸四鈉作為絡合劑,磷酸氫二鉀、磷酸二氫鉀作為pH緩沖劑,該鍍液能在碳鋼表面形成性能優(yōu)良的高純度光亮鎳鋅合金鍍層。

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